北京时间03月07日消息，中国触摸屏网讯，中芯国际购买的ASML光刻机顺利进厂，但并未非EUV光刻机！作为国内最大最先进的晶圆代工厂，中芯国际在疫情疫情期间依然没有停产，同时还在扩大14nm等先进工艺产能。据媒体报道称，3月4日，中芯国际从荷兰ASML进口的一台大型光刻机已顺利进入深圳厂区。

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作为国内最大最先进的晶圆代工厂，中芯国际在疫情疫情期间依然没有停产，同时还在扩大14nm等先进工艺产能。据媒体报道称，3月4日，中芯国际从荷兰ASML进口的一台大型光刻机已顺利进入深圳厂区。

中芯国际表示，坪山海关一系列服务措施，保障了设备第一时间进入厂区完成安装进入生产。而这台光刻机将主要用于企业复工复产后的生产线扩容。生产线扩容后，全年预计可为企业增加10%左右的营收。

据官网介绍，中芯国际深圳厂区位于深圳市坪山区，一期200mm（8英寸）芯片代工厂可提供从0.35μm到90nm的晶圆制程服务。“深圳厂的成功扩产能够支持更多200mm产能需求，并满足日益增长的客户及市场的需求”。

由于相关报道并没有提及这次中芯国际购买的光刻机的具体型号，因此也引发了一些猜测。部分网友认为这台光刻机很可能是中芯国际之前向ASML订购的最先进的EUV光刻机。但是，实际上这台机器应该还是193nm波长的DUV系列光刻机。因为，中芯国际方面已经说了，这台机器是用于现有的生产线扩容。而中芯国际深圳厂区目前所提供的产品主要还是0.35μm到90nm。而EUV光刻机则主要是针对7nm及以下先进工艺的生产。中芯国际订购EUV光刻机也主要是用来进行先进工艺的试验和测试。

3月6日下午，中芯国际方面也向媒体证实，该光刻机属于常规设备导入，并非外界所关心的极紫外光刻机（EUV）。同时，该公司补充道：“EUV光刻机属重大事件，相关动态将由中芯国际官方发布。”

早在2018年5月，中芯国际就证实已向荷兰ASML订购了一台最新型的EUV光刻机，价值高达1.5亿美元，原计划在2019年初交付。但是由于美国方面的阻挠，ASML一直未能收到荷兰政府颁发新的许可证，这也导致了ASML无法向中芯国际交付EUV光刻机。

 

虽然先进的EUV光刻机进口受阻，不过并没有影响的中芯国际目前的研发和生产进展。

去年，中芯国际的14nm已经成功量产，并且在去年四季度14nm还获得了约为769万美元的营收。今年1月，据Digitimes报导，华为旗下海思半导体公司已经开始向中芯国际14nm工艺下单，将部分原本由台积电独家代工的14nm芯片转由中芯国际代工。

此外，继2月19日宣布采购美国泛林公司6亿美元设备之后，中芯国际日前又宣布了11亿美元(约合77亿元)的大单——将从美国应用材料、日本东京电子公司采购设备。而这也被外界认为，这是要进一步提升14nm工艺的产能。

根据中芯国际预计，在2020年底，14nm晶圆的产能将会是目前的3~5倍，最多能达到15000片/月。

另外，对于后续的先进工艺，在此前的财报会议上，中芯国际联席CEO梁孟松博士也首次公开了中芯国际后续的N 1、N 2工艺的情况。

梁孟松博士表示，中芯国际的N 1工艺和现有的14nm工艺相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。从逻辑面积缩小的数据来看，应该是7nm工艺。梁孟松博士也表示，N 1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似，但性能要低一些（业界标准是提升35%），所以中芯国际的N 1工艺主要面向低功耗应用的。而在N 1之后，中芯国际还会有N 2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N 2显然是面向高性能的，成本也会增加。

此外，梁孟松博士还表示，在当前的环境下，N 1、N 2代工艺都不会用EUV工艺，等到设备就绪之后，N 2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。这也意味着后续的7nm工艺，中芯国际无需EUV光刻机也能实现量产。

至于推出的时间，在此前的财报当中，梁孟松博士有提到会在2020年底开始试产，而真正的量产可能要等到2021年了。

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