等离子清洗机
等离子体清洗设备作为一种精密干法清洗设备，可以应用于半导体开发 、集成电路开发 、真空电子行业 、塑料、玻璃和陶瓷表面活化以及微晶玻璃、继电器件的后续清洗．也可用于生命科学实验等。
特点：
PLC控制，工艺参数、运行时间、工艺过程实时监视并显示运行状态包括自动模式和手动模式
自动模式下可同时存储50组不同的配方
MFC质量流量计控制（标准配置2路）
气体流量：(0～100)ml/min （标准气压,0℃）
真空度：(10～1000)Pa
清洗时间、基础压力、功率、流量设定可调
工作气体压力、压缩空气压力、泵热过载、反应仓泄露、反射功率过大报警
可根据客户工艺定制在线式等离子体清洗机
技术规格：
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型 号 |
等离子体频率 |
反应仓尺寸(mm) |
外型尺寸(mm) |
真空泵 |
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DQX-110 |
40 kHz |
500×500×400 |
1 100×750×1 600 |
内置 |
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DQX-210 |
13.56 MHz |
500×500×400 |
1 100×950×1 600 |
内置 |
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DQX-206 |
13.56 MHz |
450×450×300 |
1 000×900×1 600 |
内置 |
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DQX-120 |
40 kHz |
450×450×300 |
600×600×1 100 |
外置 |
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DQX-220 |
13.56 MHz |
450×450×300 |
600×600×1 100 |
外置 |
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DQX-320 |
2.45 GHz |
300×300×250 |
600×600×500 |
外置 |
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DQX-102 |
40 kHz |
150×300×150 |
600×600×300 |
外置 |
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DQX-202 |
13.56 MHz |
150×300×150 |
600×600×300 |
外置 |
