在真空镀膜机镀膜的时候,是要非常注重膜层的均匀效果的,如果膜层的均匀性不好,粗糙,就是一个不合格的产品,是不能出厂的。
那么真空镀膜机镀制的薄膜均匀性是如何来判定好与坏的呢?其实可以从三方面来考虑,一个是光学性质方面,一个是化学性质方面,一个是物理性质方面。光学性质就是指那粗糙度是否可以控制好,一般是要求达到1/10左右,大约就是100A,达到了这个数值的薄膜,其均匀性可以算是好的了,当然,如果想精益求精,达到10A,或者更厉害的达到1A的话,那就需要相当高的技术了,如果真的达到了这个数值,那膜层的表面就真的非常光滑了。
化学性质就是薄膜化学成分的精确性,如果你需要镀制何种膜,你就要确保构造这种薄膜化学成分的精准,不能掺杂了其它的成分,对于某些敏感的膜层,只有那么一丁点的杂质都会影响其成膜后的效果,所以要非常注意,当然也有些不太敏感的就不需要太注重那么多,但也不是说一点都不注重。物理性质就是薄膜本身的结构,特别指的就是晶格的有序度和匹配度,在镀膜的过程中,因晶体排序的不同,会产生单晶、多晶、非晶的状态,如果晶体内部的每个部分相应的宏观性质是一样的话,那么薄膜的均匀性就是很好的。
真空镀膜机镀好膜层后,可以通过这些方面来看一下薄膜的均匀性是不是好的。